测试供求
产品名称: |
光致发光影像测量系统PLIM |
公司名称: |
光焱科技股份有限公司 |
地区: |
台湾 |
公司网址: |
http://www.enlitechnology.com/ |
Ø 产品名称 : 光致发光影像测量系统PLIM
Ø 产品型号 : PLIM320
Ø 产品说明
PLIM320系统是最全面的光致发光影像测量系统。
光致发光,或称光激发荧光 (Photoluminescence, PL) 对于检测发光半导体材料的光电特性是一个方便快速、非接触式与无破坏性的技术。藉由分析光致发光的光谱影像与数据,可以得知掺杂之杂质的种类与含量、能隙大小、少子寿命分布,鉴别材料的损伤、裂痕,以及缺陷分布等等,是做为材料的结构成分、性能与质量鉴别的最佳工具。
PL经常应用于半导体材料、太阳能电池测试、LED外延片等等材料的研究与检测等领域。
l 配备短波红外相机SWIR InGaAs,波长侦测范围在900 nm ~ 1700 nm,涵盖了目前所有太阳能电池材料的发光波段。
l 可侦测波长范围900 nm ~ 1700 nm包含硅能带间的发光(~ 1200 nm, band-to-band luminescence)、硅缺陷发光(~ 1500 nm, dislocation luminescence)。
l 主要可从事三种模式的影像测量;分别是穿透式光致发光影像测量(T-PLI)、反射式光致发光影像测量(R-PLI)、以及红外穿透影像测量。
l 可更换不同视野的镜头来改变所拍摄到影像的空间分辨率。
l 配备自动XY移动平台扫描成像,达到高空间分辨率与较宽广的拍摄视野。
l 简单易用的程序接口。
Ø 产品规格
项目 | | | 1. 320 x 256 pixel 2. 侦测波长范围: 900 nm ~ 1700 nm 3. 影像速度: 30Hz 4. 标准配备涵盖视野156 mm x 156 mm的广角镜头一个,与38 mm x 28 mm视野的镜头一个。 | | 1. 激光一部, 808 nm, 30W 2. 50W QTH光源一部,含1200 nm长波滤镜(Long Wavelength Pass Filter) | | 1. 行程: 200 mm 2. 分辨率: 2.5 um 3. XY轴控制器一部 | | 1. 反射式均光装置x1, 2. 穿透式均光装置x1 | | 1. 可放置最大156 mm x 156 mm大小样品 | | 1. 可控制相机取相拍摄、储存 2. 可做影像扫描拍摄 3. 可自动将扫描拍摄结果成像、储存。 4. 可做强度分析 5. 可做少子生命期分布作图。 | | | | 1. 单张拍摄速度: < 1 sec 2. 可作T-PLI、R-PLI、IR穿透影像、与ELI的检测。 3. ELI配备两座Z轴调整探针座及一可程控电源供应器(最高可提供10安培电流)。 |
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