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光致发光影像测量系统PLIM

发布者: echo | 发布时间: 2014-8-28 12:25| 查看数: 2920| 评论数: 0

测试供求
产品名称: 光致发光影像测量系统PLIM
公司名称: 光焱科技股份有限公司
地区: 台湾
公司网址: http://www.enlitechnology.com/
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Ø        产品名称 : 光致发光影像测量系统PLIM
Ø        产品型号 : PLIM320
Ø        产品说明
PLIM320系统是最全面的光致发光影像测量系统。
光致发光,或称光激发荧光 (Photoluminescence, PL) 对于检测发光半导体材料的光电特性是一个方便快速、非接触式与无破坏性的技术。藉由分析光致发光的光谱影像与数据,可以得知掺杂之杂质的种类与含量、能隙大小、少子寿命分布,鉴别材料的损伤、裂痕,以及缺陷分布等等,是做为材料的结构成分、性能与质量鉴别的最佳工具。
PL经常应用于半导体材料、太阳能电池测试、LED外延片等等材料的研究与检测等领域。

l        配备短波红外相机SWIR InGaAs,波长侦测范围在900 nm ~ 1700 nm,涵盖了目前所有太阳能电池材料的发光波段。
l        可侦测波长范围900 nm ~ 1700 nm包含硅能带间的发光(~ 1200 nm, band-to-band luminescence)、硅缺陷发光(~ 1500 nm, dislocation luminescence)。
l        主要可从事三种模式的影像测量;分别是穿透式光致发光影像测量(T-PLI)、反射式光致发光影像测量(R-PLI)、以及红外穿透影像测量。
l        可更换不同视野的镜头来改变所拍摄到影像的空间分辨率。
l        配备自动XY移动平台扫描成像,达到高空间分辨率与较宽广的拍摄视野。
l        简单易用的程序接口。
Ø        产品规格
  
项目
  
规格
SWIR InGaAs相机
1.      320 x 256 pixel
  
2.      侦测波长范围: 900 nm ~  1700 nm
  
3.      影像速度: 30Hz
  
4.      标准配备涵盖视野156 mm x  156 mm的广角镜头一个,与38 mm x 28 mm视野的镜头一个。
激发光源
1.      激光一部, 808 nm,  30W
  
2.      50W QTH光源一部,含1200 nm长波滤镜(Long Wavelength Pass Filter)
X、Y移动平台
1.      行程: 200 mm
  
2.      分辨率: 2.5 um
  
3.      XY轴控制器一部
均光装置
1.      反射式均光装置x1,
  
2.      穿透式均光装置x1
载台
1.      可放置最大156 mm x  156 mm大小样品
软件规格
1.      可控制相机取相拍摄、储存
  
2.      可做影像扫描拍摄
  
3.      可自动将扫描拍摄结果成像、储存。
  
4.      可做强度分析
  
5.      可做少子生命期分布作图。
计算机系统
1.      PC/LCD,Windows 操作系统
其他
1.      单张拍摄速度: < 1  sec
  
2.      可作T-PLI、R-PLI、IR穿透影像、与ELI的检测。
  
3.      ELI配备两座Z轴调整探针座及一可程控电源供应器(最高可提供10安培电流)。


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