长期以来，多晶太阳电池表面反射率较高的难题一直得不到有效的解决，制约了电池效率的进一步提升。湿法黑硅技术(Metal Catalyzed Chemical Etching，MCCE)成功解决了这一难题，突破了这方面的效率限制。该技术既适用于砂浆切割硅片，也适用于金刚线切硅片，是降本增效的利器，将来势必成为多晶电池的标配技术。阿特斯历经3年自主研发，攻克多道技术难关，在2014年底成功量产，在世界上首次实现湿法黑硅技术产业化，在多晶技术领域走在了行业的前列，开辟了高效多晶电池产业化的新纪元。阿特斯的湿法黑硅技术为金刚线线切在多晶切片领域的大面积推广铺平了道路。湿法黑硅技术还可以融合其他硅片及电池产业化技术，从根本上提升多晶电池的转换效率，并降低光伏组件的成本。湿法黑硅技术势必取代常规多晶制绒，成为未来多晶电池制程的标配技术。