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光致发光影像量测系统PLIM320

2013-9-10 17:27| 发布者: echo| 查看: 15536| 评论: 0|来自: 光焱科技

摘要: 产品说明PLIM320系统是最全面的光致发光影像量測系统。光致发光，或称光激发荧光 (Photoluminescence, PL) 对于检测发光半导体材料的光电特性是一个方便快速、非接触式与无破坏性的技术。藉由分析光致发光的光谱影像 ...

产品说明

PLIM320系统是最全面的光致发光影像量測系统。

光致发光，或称光激发荧光 (Photoluminescence, PL) 对于检测发光半导体材料的光电特性是一个方便快速、非接触式与无破坏性的技术。藉由分析光致发光的光谱影像与数据，可以得知掺杂之杂质的种类与含量、能隙大小、少子寿命分布，鉴别材料的损伤、裂痕，以及缺陷分布等等，是做为材料的结构成分、性能与质量鉴别的最佳工具。

PL经常应用于半导体材料、太阳能电池检测、LED外延片等等材料的研究与检测等领域。

产品特色

配备短波红外相机SWIR InGaAs，波长侦测范围在900 nm ~ 1700 nm，涵盖了目前所有太阳能电池材料的发光波段。
可侦测波长范围900 nm ~ 1700 nm包含硅能带间的发光(~ 1200 nm, band-to-band luminescence)、硅缺陷发光(~ 1500 nm, dislocation luminescence)。
主要可从事三种模式的影像量测；分别是穿透式光致发光影像量测(T-PLI)、反射式光致发光影像量测(R-PLI)、以及红外穿透影像量测。
可更换不同视野的镜头来改变所拍摄到影像的空间分辨率。
配备自动XY移动平台扫描成像，达到高空间分辨率与较宽广的拍摄视野。
简单易用的程序接口。

产品规格

硬件规格：

利用PLIM320 扫描拍摄的影像 :

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